Recherche et développement en micro-nanofabrication, caractérisation optique, électrique, bio-détection, et dispositifs microélectroniques et quantiques pour des technologies de pointe.
La plateforme 3IT.Nano constitue un écosystème unique en micro-nanofabrication et caractérisation, offrant 1600 m² de laboratoires à la fine pointe de la technologie, dont 530 m² de salles blanches de classe 100. Dotée d’un parc d’équipements polyvalents, elle propose une chaîne complète d’outils pour effectuer la synthèse de matériaux, de la micro et de la nanofabrication, ainsi que de la caractérisation avancée. Les travaux de recherche effectués au sein de la plateforme couvrent des domaines variés et stratégiques : micro et nanoélectronique, microsystèmes électromécaniques (MEMS), photonique, énergies renouvelables, électronique de puissance et haute fréquence, bio-détection, laboratoires sur puce et dispositifs quantiques. La plateforme est une infrastructure ouverte et collaborative qui réunit des chercheurs, étudiants et partenaires industriels, et elle permet ainsi, d’accélérer le développement de technologies novatrices.
Services aux partenaires du milieu de l’enseignement postsecondaire et privés :
• Lignes de procédés de micro et nanofabrication 200mm et 100mm
• Dépôt de couches minces
• Croissance de matériaux
• Implantation ionique
• Lithographie (nanolithographie, photolithographie)
• Gravure plasma (6 réacteurs)
• Gravure humide
• Traitement chimique
• Placage
• Polissage mécanochimique (CMP)
• Collage direct de tranches (wafer bonding)
• Découpe et amincissement de tranches
• Métrologie automatisée à l’échelle d’une tranche
• Caractérisation électrique avancée (courant alternatif, courant continu, selon la température, sous atmosphère contrôlée)
• Caractérisation optique et photonique
• Caractérisation morphologique et physique (microscopie électronique à balayage (MEB), microscopie à force atomique (MFA), diffraction des rayons X, profilométrie)
- Technologies propres
- Énergie
- Technologies et services de l’environnement
- Technologies de l’information et des communications, et médias
Laboratoires et équipements spécialisés
| Équipement |
|---|
| Aligneuse de masque haute précision MJB4 de SUSS MicroTec |
| Aligneuse de masque de table modèle 200 de OAI |
| Aligneuse de masque modèle 806MBA de OAI |
| Appareil pour assemblage de substrats AWB-04 de Applied Microengineering Ltd. |
| Autoclave 25X-1 de Allaremic |
| Bancs humides |
| Boite à gants sous atmosphère inerte VGB-4A de MTI Corp. |
| Appareil de caractérisation électrique des matériaux sans contact GmbH MDPspot de Freiberg Instruments |
| Centrifugeuses |
| Enceinte environnementale EC12 de Sun Electronic Systems |
| Système de dépôt Nebula de Angstrom Engineering |
| Dispositif de dépôt sous-vide AUTO 306 de Edwards |
| Système de dépôt physique en phase vapeur Quantum Series de Angstrom Engineering |
| Système de dépôt de couches atomiques (ALD) avancé R-200 de Picosun |
| Distributeur de résine automatique Polos ADC de SPS |
| Diffractomètreà rayons X haute résolution SmartLab de Rigaku |
| Système de lithographie par faisceau électronique RAITH150TWO |
| Système de lithographie par faisceau électronique EBPG 5200 de RAITH |
| Ellipsomètre spectroscopique UVISEL PLUS de Horiba |
| Ellipsomètre spectroscopique alpha-SE de J.A. Woollam |
| Enceinte de sécurité biologique de Nuaire (Classe II, Type A2) |
| Système d’épitaxie par faisceaux chimiques (CBE) pour matériaux III-N de OSEMI |
| Système d’épitaxie par faisceaux chimiques (CBE) pour matériaux III-V RIBER de VG Semicon |
| Équipement d’épitaxie par dépôt chimique en phase vapeur pour matériaux groupe IV |
| Étaleuse de Solitec Engineering Ltd. |
| Tournettes de dépôt Cee 200X de Brewer |
| Appareil d’exposition DUV (ultra-violet lointain), modèle 2000 de OAI |
| Réflectomètre F10-RT-EXR de Filmetrics |
| Four Carbolite |
| Four haute température pour salle blanche Gero HTCR6 de Carbolite |
| Four sous atmosphère controlée Blue M GO1310A-1 de Lindberg |
| Four à recuit thermique rapide (RTA) JetFirst de Jipelec |
| Four de Sentrotech |
| Four de séchage sous vide DZF-6050 ABE |
| Fournaises TYTAN de Tylan |
| Four à combustion 3-550 de Vulcan |
| Système de gravure ionique réactive PlasmaPro 100 Cobra 300 de Oxford Instruments pour gravure de matériaux III-V |
| Système de gravure plasma à couplage inductif PlasmaPro 100 Cobra de Oxford Instruments pour gravure de métaux |
| Système de gravure ionique réactive profonde PlasmaPro 100 Estrelas de Oxford Instruments |
| Système de gravure ionique réactive March CS-1701 de Nordson |
| Système de plasma à couplage inductif STS multiplex SR pour matériaux III-V |
| Système de plasma à couplage inductif STS Multiplex de gravure par AOE pour matériaux diélectriques |
| Système de plasma à couplage inductif STS Multiplex de gravure par AOE pour silicium |
| Implanteur ionique CF 3000 de VARIAN |
| Laser infrarouge (IR) S150-980-1/2C de Apollo Instruments (980 nm) |
| Laser infrarouge (IR) Q-Mark de Quantronix (1064 nm) |
| Laser ultraviolet (UV) PM-846 ArF sn: E0440002 de GSI Lumonics (193 nm) |
| Laser excimère ultraviolet (UV) PulseMaster PM-846 de GSI Lumonics (248 nm) |
| Mélangeur sous vide AX-2000 |
| Appareil de mesure de conductivité sans contact Semilab LEI88 |
| Appareil d’imagerie hyperspectrale en photoluminescence HIPLM de Photon etc. (60mW) |
| Instrument de spectroscopie d’impédance électrochimique (EIS) modèle 640C de CH Instruments |
| Analyseur d’impédance/gain-phase Schlumberger Si 1260 de Solartron |
| Microscope à fluorescence modèle IX71-IX-2 1LL100 de Olympus |
| Microscope à force atomique (AFM) NX20 de Park Systems |
| Microscope électronique à balayage (MEB) Apreo2 de ThermoFisher Scientific |
| Microscope digital holographique modèle DHM-1003 de LyncéeTec |
| Microscope confocal à balayage laser 3D -VK-X1100 de Keyence |
| Microscope industriel Eclipse ME600L de Nikon |
| Microscope DM LM de Leica |
| Microscope optique Infinity 2 de ZEISS |
| Microscope électronique à balayage (MEB) Axia ChemiSem de ThermoFisher Scientific |
| Microscope électronique à balayage (MEB) ThermoFisherPhenom XL G2 |
| Appareil de mesure d’angle de contact DSA 30S de KRUSS |
| Appareil de nettoyage–UV de table PSD-UVT de Novascan |
| Appareil de nettoyage de tranches GNP-412S de G&N Technology |
| Dispositif de calcination au plasma Plasmaline 415 de TEGAL |
| Système de cartographie par photoluminescence PLM150 de Philips |
| Système de lithographie laser DWL66fs de Heidelberg Instruments |
| Machine de polissage mécanochimique E460 CMP de Alpsitec |
| Polisseuse MultiPol de ULTRA TEC |
| Four à vapeur YES LP III |
| Interféromètre à lumière blanche PHOTOMAP 3D de Fogale |
| Profilomètre à stylet Tencor P-17 de KLA |
| Profilomètre Veeco Dektak 150 |
| Appareil de pulvérisation cathodique K550 de Emitech |
| Appareil de pulvérisation cathodique SPT320 de Plasmionique |
| Appareil de pulvérisation cathodique Auto 500 de Edwards |
| Équipement d’épitaxie par dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (Réacteurs PECVD) STS MESC Multiplex |
| Systèmes de détection par résonance plasmonique de surface (SPR) (3) |
| Scie à découper DAD320 de DISCO Corporation |
| Essoreuse–sécheuse de Semitool |
| Spectromètres infrarouge à transformée de Fourrier (FTIR) (3) |
| Système de spectroscopie Raman avec laser de StellarNet |
| Station de caractérisation de LED |
| Station de mesures électriques incluant une station sous pointes manuelle MP-400 de Wentworth |
| Station de microcalorimétrie |
| Station à effet Hall de MMR Technologies |
| Station d’injection dans des guides d’ondes optiques |
| Station de mesure de l’efficacité quantique externe (EQE) modèle QEX7 de PV measurements |
| Station d’essai de caractérisation instantané de Sinton |
| Station de phototransduction |
| Station sous pointes DC MP-900 de Wentworth |
| Station sous pointes Ossila |
| Congélateur ultra-froid de ScienTemp |
| Système de table de revêtement par pulvérisation PRISM BT de Ultrasonic Systems |
Partenaires de recherche des secteurs privé et public
- Institut Quantique
- Institut national d’optique (INO)
- Distriq, Zone Innovation Quantique
- Technum Québec, zone d’innovation quantique
- Centre de Collaboration MiQro Innovation (C2MI)
- CMC Microsystems
- Teledyne DALSA Bromont
- IBM Bromont
- Laser COMPONENTS Canada
- Umicore
- Nord Quantique
- Nokia
- Extropic
- Anyon Systems
- SBQuantum
- Opsens Inc.
- Irréversible Inc.
- AEPONYXDigitho
- Spectronix
- GaN Systems
- Excelitas Technologies Corp.
- Université de la Colombie-Britannique
- Université McGill
- Université de Toronto
- Université d’Ottawa
- Centre national de la recherche scientifique (CNRS)
- École de technologie supérieure (ETS Montréal)
- Institut national de la recherche scientifique (INRS)
- Université Laval
- Conseil national de la recherche Canada (CNRC) Edmonton
- Polytechnique Montréal