NanoFabrication Kingston

Université Queen's, Kingston, Ontario
Que fait l'installation

Conception et prototypage d’innovations appliquées aux matériaux, à la fluidique, à la mécanique, à l’électronique et à la photonique sur les plans micro et nanotechnologiques.

Domaines d'expertise

Le laboratoire met à la disposition de chercheurs et d’entreprises du matériel, des méthodes et des experts de pointe pour concevoir et prototyper des microsystèmes et des nanotechnologies ainsi que former les innovateurs de la prochaine génération.

Services de recherche

Conception et prototypage, dont la gravure, la lithographie, le dépôt, le micro-usinage, la caractérisation, l’exécution de projet et l’ingénierie de soutien.

Secteurs d'application
  • Aérospatial et satellites
  • Technologies propres
  • Technologies de l’information et des communications, et médias
  • Sciences de la vie, produits pharmaceutiques et équipement médical
  • Fabrication et transformation
ÉquipementFonction
Système de lithographie par faisceau d’électrons PIONEER de RaithMicroscope électronique à balayage haute résolution avec logiciel et capacité de contrôle d’étapes pour effectuer la lithographie par faisceau d’électrons afin d e modeler des matériaux sensibles d’une résolution <20 nm.
Système de photolithographie sans masque, modèle Intelligent Micro-Patterning SF-100 XPRESSModéliser des détails de taille de <1 micromètre à plusieurs centimètres sur matéraux photosensibles sans recourir à des masques.
Système de micro-usinage laser picoseconde Série Laser A de OxfordTailler au laser, percer et fraiser divers matériaux, dont les semi-conducteurs, le verre, le métal, les polymères et la céramique avec traits d’une largeur de 10 à 15 micromètres.
Système de distribution de fluides au picolitre Microplotter II de Sonoplot/GIXUtiliser un traceur capillaire qui dispense par ultrasons des motifs liquides sur des surfaces avec une résolution de 5 micromètres.
Évaporateur à faisceau d’électrons, canon à électrons avec accélérateur linéaire modèle e-Gun 3 kW de ThermionicsDéposer des couches de matériau d’une épaisseur justqu'à 500 nm par évaporation par faisceau d’électrons sous vide élevé. L’aluminium, l’or et le chrome sont parmi les matériaux les plus courants.
Système de nettoyage et de gravure au plasma Plasma-Preen de Plasmatic Systems Inc.Retirer les matériaux organiques des surfaces. Habituellement utilisé pour nettoyer les substrats avant ou après les étapes de fabrication afin de veiller à l’intégrité de l'adhésion des couches, de la gravure humide, et autres.
Microscope optique Axio Imager A1m de ZEISSExaminer des substrats, des revêtements déposés et des motifs d’imagerie tracés sur un substrat par micro-usinage, photolithographie ou lithographie par faisceau d’électrons.
Aligneur de masques photolithographiques NXQ4006 de Neutronix Quintel Modéliser des matériaux photosensibles aux bandes g, h et i.
Matériel pour la préparation d’échantillons lithographiques (hotte à flux d’air laminaire, appareil d’enduction centrifuge et plaques de cuisson)Nettoyer des substrats et leur revêtement de réserves pour la photolithographie ou lithographie par faisceaux d’électrons pour la création de substrats orientés et la cuisson de substrats.
Système de gravure ionique réactive Minilock III de TrionProduire du plasma avec source de plasma à couplage inductif pour la gravure à sec d’un vaste éventail de matériaux, notamment ceux à base de silicium (par exemple, silicum, oxyde de silicium, et nitrure de silicium), les pellicules métalliques (p. ex., aluminium) et d’autres substrats (p. ex., arsénure de gallium).
Appareil de pulvérisation PVD 75 de LeskerDéposer des matériaux conducteurs pour la fabrication de micropuces multicouches, de circuits microélectroniques, de MEMS et  autres, et dépôt de composites pour former de minces couches de matériaux fonctionnels.
Profilomètre à stylet DektakXT de BrukerMesurer la hauteur de palier et la rugosité de couches minces et des surfaces.
Ellipsomètre spectroscopique VASE de JA WoollamMesurer les propriétés d'une couche mince sur un substrat, telles que l'épaisseur des couches, l'indice de réfraction et d'autres constantes optiques.
Station de sonde Summit de CascadeConfiguré avec une sonde en ligne à quatre points pour mesurer la résistance de couches minces sur un substrat.
  • CMC Microsystems
  • GreenCentre Canada
  • Spectra Plasmonics